GSIクレオス産業機材部は半導体関連商品をはじめ、様々な部材、装置を扱っております。

novasic社(仏)　SiCウエハ
ポリッシュ・エピ・再生・平坦化・薄化

・1995年フランスにて設立、ISO9001保有

・高い技術力、ポリッシング16年の経験と実績

・SiCウエハを中心に、各種サービスを欧米で展開

　　　ポリッシュ（エピ下地）　/  エピタキシャル（SiC）　/  薄化

　　　再生（薄膜除去、再利用）　/ 平坦化（パターンニング後）
・お客様のウエハを預かり、加工後お返しするサービス
　又は直接novasic社からポリッシュ後のSiCエピウエハの
　提供も可能
・ｎovasic社HPはこちら

<ポリッシング比較　TEM測定断面図＞
一般ポリッシング　　　　novasic stepSiCポリッシング
 　 　 　　 　　　　　　　　　　　　

＜ポリッシング比較AFM(tapping mode) 5*5um2表面測定＞ 
一般的ポリッシング　　　　　novasic stepSiCポリッシング
　　　　　　　


<ポリッシング後のRMS>

measured by AFM, field size 5µm x 5µm in tapping mode

SiCデバイスを作りこむ際、novasic独自の
CMP技術によってエピ前後の表面欠陥を低減します。
ポリッシング2”～6”、エピ2”～4” (6"は2015年以降対応予定)


ご質問などございましたら何なりとお問い合わせください。